某半导体行业开发品牌因晶圆擦洗加工过程呈现含氨废渣，供水量200吨/天。废渣中除高锰酸盐指数外还包含有氟化物和轻微天价属，加工的难度大。当地政府排出标准要求标准要求高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水物质及由来 晶圆擦拭焦化废水（一般特征）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀加工过程工业废水：含进样器铜、镍等血本属，pH值价格波动大 CMP磨研工业废水：含硅粒子及挥发酚 治理 新工艺操作流程 采取"化学物质结晶+膜提取+折点氯化"组合名字生产工艺： 预处置 ：加药CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 超滤膜设计 ：清除0.01μm这些顆粒物 反渗透装置性和提液 ：将高锰酸盐指数提液至1000mg/L以内 折点氯化 ：高精度把控氯添加量，将氟化物转换为氦气 阳离子交易 ：服务保障天价属不合格 结果使用效果 高锰酸盐指数维持＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属含氧量底于查测限 水工业废水处理率达75% 飞灰制造量增多40%